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- 工艺特点：1， 阴极电流电流效率高，可达22-26%；2， 可使用电流密度高达60安培/平方分米以上，沉积速度因此极大提高；3， 与其它的混合催化剂镀铬工艺不同，RC-25不含氟化物，不会浸蚀工件的低电流区；4， 镀层的显微硬度达1000-1100KHN100镀层的微裂纹数可达1000条/英寸，防腐蚀能力因而提高；5， 镀层平滑，细致光亮；6， 镀层厚度均匀，减少高电流密度之过厚沉积；7， 不会浸蚀铅锡阳极，无需使用特殊阳阴极材料；8， 前处理流程、阳极、镀槽等均与一般传统镀铬工艺一样。镀液组成及操作条件：镀液组成及工艺条件 铬酸240克/升225--275克/升 纯硫酸2.7克/升2.5—4.0克/升 RC-25K开缸剂20毫升/升10--30毫升/升 阴极电流密度60安培/平方分米30--75安培/平方分米 阳极电流密度30安培/平方分米15--35安培/平方分米 工作温度58℃50—60℃ 设备要求：1， 镀槽：硬聚氯乙烯板或钢槽内衬软聚氯乙烯均可，槽边应有抽分设备；2， 整流器：要有足够的容量与镀槽配套，波纹系数小于5%，电压不小于15V；3， 阳极：使用的阳极为铅锡合金（锡：7%）或铅锑合金，辅助及象形阳极应采用铅锡或铅锑合金；4， 加热器：选用钛、铅或聚四氯乙烯材料；5， 冷却管：选用钛或铅材料；6， 过滤泵：过滤泵的材料宜采用不锈钢或适当的耐铬酸塑料。镀液配制方法：1， 在清洗过的镀槽字内计入三分之二的蒸馏水或去离子水，并加热至55—60℃；2， 将计算量的铬酐（250克/升）缓慢加入槽内，搅拌使其全部溶解；3， 加入RC-25K开缸剂20毫升/升；4， 分析所含硫酸浓度，并调整至2.7克/升；5， 加入适量的铬雾抑制剂；6， 点解4—6小时，便可开始试镀。添加剂的作用和补充：1， RC-25K：开缸剂RC-25K通常只用于新配镀液，或作补充带出损耗；2， RC-25R：补充剂RC-25K用于镀液的补充添加：每补充1公斤铬酸添加100毫升RC-25R。杂质影响：对一般硬铬镀液有害的杂质亦同样会影响RC-25镀液。三价铬及金属（铁、铜、镍）杂质过多时，会降低镀液的导电性能，使镀层粗糙。总杂质含量不能超过7.5克/升，氯离子含量亦不宜超过100pm。转缸法：由一般传统镀硬铬工艺转为RC-25的程序非常简单只需分析并调整镀液中金属杂质含量不大于7.5克/升，氟化物含量不能超过0.2克/升，把铬酸酐含量调整到240克/升，按开缸量添加RC-25K即可。
