去铜粉(剂)
在一般硫酸盐镀镍液中,混入了大于20mg/L的铜杂质,就会引起镀镍层性能恶化,致使零件在低电流密度区发暗发黑。去铜粉专用于沉淀剔除镀镍液中有害的铜杂质。用去铜粉处理铜杂质,比用低电流电解处理法和提高PH值沉淀法省却了长时间的电解时间和大量的金属镍消耗,如每月或每次大处理镀镍液前定量地加入QT去铜粉0.2-0.4g/L,将使用铜杂质过高所造成的发暗发黑弊病得到有效消除。这对铜-镍-鉻一步法中镀镍液的长期性维护是一种稳定,可靠,又快速简单有效的好方法。
使用方法:
1. 先将QT去铜粉以(重量比)10倍水溶解。(如是去铜剂则按1:2稀释)
2. 按计算量的水溶液去铜粉(每1mg约可除铜离子5mg)在压缩空气搅拌或手工搅拌下缓缓加入镍液中并继续20至30分钟,以保证充分反应1至2小时即可使红棕色的沉淀物凝聚沉淀,过滤去即可。
3. 使用QT去铜粉前应先根据铜杂质的实际情况确定用量,以免过量的去铜粉会使镍离子损耗(每1g过量的QT去铜粉在约100L镍液中损耗镍离子约45mg)但不用担心去铜粉进入镍液后会影响镀液性能