点击图片查看原图
应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。
该系列设备主要是使用直流（或中频）磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铬、不锈钢、镍等金属材料，可以利用溅射工艺进行镀膜，可提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点。
主机控制采用可编程序控制器（PLC）+触摸屏（HMI）组合电器控制系统。全自动控制，配置先进大功率磁控电源，恒流输出，克服靶中毒。
技术参数说明
型号：ZDCE-1400
真空室尺寸：Φ1400X1950
制膜种类：多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增反射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型：直流磁控电源、中频磁控电源、高压离子轰击电源
圆柱靶：直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶
真空室结构：立式双开门、立式单开门
真空系统：滑阀泵+罗茨阀+扩散阀+维持阀（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
充气系统：质量流量控制仪（1-4路）
极限真空：6X10-4pa（空载、净室）
抽气时间：空载大气抽至5X10-3pa小于15分钟
工件旋转方式：6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式：手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注：真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
（资料仅供参考，部分参数可能有所变动，恕不另行通知）
